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半導(dǎo)體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹

發(fā)布時(shí)間:2023-07-21 點(diǎn)擊量:816

半導(dǎo)體制造行業(yè)工藝之一-光刻黃光NLT3系列介紹

特點(diǎn)

光刻是半導(dǎo)體制造過程中不可少的工藝之一。

晶圓被光刻膠,然后進(jìn)行蝕刻和摻雜過程。

NLT3-591nm系列以光刻膠不反應(yīng)的波長(zhǎng)發(fā)光,使其適用于光刻前后工藝中的設(shè)備照明,這是一種半導(dǎo)體制造工藝。

應(yīng)用示例

半導(dǎo)體設(shè)備照明、IC工廠照明、潔凈室、黃室等

規(guī)范

發(fā)光二極管波長(zhǎng)591納米
預(yù)期壽命工作溫度 40°C 40,000 小時(shí)
* 壽命是照度為初始照度的 70% 時(shí)
工作溫度-10°C~40°C(但不凍結(jié))
防護(hù)等級(jí)IP65 防護(hù)等級(jí)
電源線3 米 (AWG26x2C)
選擇安裝磁鐵 (ND-P03)











標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)列表

繪圖總光通量照度(1米)權(quán)力功耗
NLT3-10-直流-S(591納米)。.PDF 300 流明80 lx直流24V3.8瓦
NLT3-20-直流-S(591納米)。.PDF 610 流明160 lx8W
NLT3-30-直流-S(591納米)。.PDF 930 流明230 lx12W
NLT3-40-直流-S(591納米)。.PDF 1,240 流明310 lx16W









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